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電子級 6-丁基-N-羥基萘酰亞胺三氟甲磺酸

6-butyl-1,3-dioxo-1H-benzo[de]isoquinolin-2(3H)-yl trifluoromethanesulfonate

產品編號 CAS No. MDL No. PubChem ID 分子式 分子量 純度 外觀
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英文名稱 6-butyl-1,3-dioxo-1H-benzo[de]isoquinolin-2(3H)-yl trifluoromethanesulfonate
中文名稱電子級 6-丁基-N-羥基萘酰亞胺三氟甲磺酸
CAS號1610827-31-0
產品編號YH68321
分子式C17H14F3NO5S
分子量401.36

電子級6-丁基-N-羥基萘酰亞胺三氟甲磺酸(是一種高純度、高性能的電子化學品,具有優異的化學穩定性、熱穩定性和良好的電氣性能。該產品廣泛應用于半導體、光電、薄膜材料以及高精度電子制造領域。特別適用于光刻膠配方、表面處理和電子器件的保護涂層,能夠顯著提高微電子工藝的可靠性和精度。

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【物理性質】

基本信息

1)分子式:C17H14F3NO5S

2)分子量:401.36 g/mol

外觀與純度

1)外觀:白色至淡黃色結晶或粉末。

2)純度:≥99.5%(電子級)。

溶解性與穩定性

1)溶解性:易溶于有機溶劑如醇、醚、氯仿等,微溶于水。

2)穩定性:在常規儲存條件下具有較高的化學穩定性和熱穩定性,適合長期存儲和使用。

熱穩定性

1)熔點:約80°C

2)沸點:約300°C(在常壓下)。

3)熱分解溫度:約250°C

電氣性能

1)電導率:低電導率,適合高精度電子制造應用。

2)絕緣性能:具有較強的電絕緣性能,在微電子設備中可有效防止電流泄漏。

【應用領域】

光刻膠和薄膜材料

1)作為光刻膠的關鍵添加劑,能夠提高光刻膠的分辨率和穩定性,廣泛應用于半導體制造中的微細結構刻蝕過程。

2)在薄膜材料中用作光敏材料,提升薄膜的圖像清晰度和表面附著力。

半導體封裝和表面處理

1)作為封裝材料的增強劑,增強半導體封裝材料的耐熱性、耐腐蝕性和電氣性能。

2)在電子元器件表面處理過程中,可以提供優異的保護膜,減少外界環境對器件的損害。

 

電子元器件保護涂層

1)用于高精度電子元器件的表面涂層,具有良好的附著力和耐磨性。

2)能夠有效防止靜電放電(ESD)和化學腐蝕,提高電子元器件的穩定性和使用壽命。

光電器件與顯示技術

1)應用于光電器件的涂層材料,改善器件的光電轉換效率和長期穩定性。

2)在顯示器領域中,有助于提高顯示質量和光學性能,特別是在OLED顯示和觸摸屏領域。

【總結】

電子級6-丁基-N-羥基萘酰亞胺三氟甲磺酸以其優異的化學穩定性、熱穩定性和電氣性能,在微電子、半導體、光電及顯示技術中發揮著重要作用。其應用可以顯著提升光刻膠、封裝材料及電子元器件的性能,滿足高精度電子制造工藝的需求,是現代電子工業不可或缺的關鍵材料之一。


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