| 英文名稱 | Ethanone,1,1'-[1,3-propanediylbis(oxy-4,1-phenylene)]bis[2,2,2-trifluoro-,1,1'-bis[O-(propylsulfonyl)oxime] |
|---|---|
| 中文名稱 | 電子級 產酸劑PAG 203 |
| CAS號 | 300374-81-6 |
| 產品編號 | YH68312 |
| 分子式 | C25H28F6N2O8S2 |
| 分子量 | 662.62 |
| 英文名稱 | Ethanone,1,1'-[1,3-propanediylbis(oxy-4,1-phenylene)]bis[2,2,2-trifluoro-,1,1'-bis[O-(propylsulfonyl)oxime] |
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| 中文名稱 | 電子級 產酸劑PAG 203 |
| CAS號 | 300374-81-6 |
| 產品編號 | YH68312 |
| 分子式 | C25H28F6N2O8S2 |
| 分子量 | 662.62 |
電子級產酸劑PAG 203是一種高純度光致產酸劑，廣泛應用于半導體光刻膠體系中。其獨特的光化學性能和優異的熱穩定性，使其能夠在紫外（UV）至深紫外（DUV）波段實現高效的酸生成，適配先進光刻工藝對高靈敏度和高分辨率的需求。該產品滿足高端電子材料對純度和性能的嚴格要求，是提升光刻膠性能的關鍵組分之一。
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【物理性質】
基本性質
化學名稱：PAG 203
分子量：662.62 g/mol
分子式：C25H28O8N2F6S2
外觀：白色至淺黃色粉末或晶體
光化學性能
光譜吸收范圍：深紫外（DUV）至極紫外（EUV）波段
產酸效率：高光解效率，酸產量穩定
熱穩定性與儲存條件
熔點：根據結構優化，通常大于150℃
儲存條件：密封避光，低溫儲存（≤25℃），避免濕氣和氧化環境
【應用領域】
光刻膠制備
作為關鍵的光致產酸劑，PAG 203能夠在光刻膠中顯著提高光敏性能。
（1）適用于ArF、KrF等DUV光刻工藝，支持高分辨率納米級圖案制造。
（2）在EUV光刻中表現出優異的酸生成效率，提升膠體顯影性能。
微電子加工
廣泛應用于集成電路制造中的高精度圖案轉移工藝。
（1）優化器件線寬控制，滿足高密度集成電路需求。
（2）提升曝光和顯影過程中的圖形清晰度與穩定性。
特殊電子材料開發
在功能性光刻材料和敏化劑的研發中，PAG 203是重要原料。
（1）應用于光刻膠配方優化，提升材料化學惰性與穩定性。
（2）適配顯示器、傳感器等領域的高性能電子材料需求。
