電子級(jí)全氟丁基磺酸三苯基锍鹽是一種高性能光酸生成劑，專(zhuān)為高分辨率光刻工藝設(shè)計(jì)。其優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性和光酸生成效率使其成為先進(jìn)制程中關(guān)鍵材料之一，特別適用于深紫外（DUV）和極紫外（EUV）光刻技術(shù)。該產(chǎn)品滿(mǎn)足苛刻的電子級(jí)純度需求，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造和微電子加工領(lǐng)域，助力實(shí)現(xiàn)精密圖形轉(zhuǎn)移和高集成度器件的生產(chǎn)。

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【物理性質(zhì)】

基本性質(zhì)

（1）化學(xué)名稱(chēng)：全氟丁基磺酸三苯基锍鹽。

（2）分子式：C₂₂H₁₅F₉O₃S₂

（3）分子量：562.46 g/mol。

外觀與溶解性

（1）外觀：白色至淺黃色粉末。

（2）溶解性：易溶于常見(jiàn)有機(jī)溶劑，如甲醇、丙酮和乙腈。

熱穩(wěn)定性與純度

（1）熱分解溫度：＞180℃，滿(mǎn)足光刻過(guò)程中熱處理要求。

（2）純度：≥99.9%，符合電子級(jí)標(biāo)準(zhǔn)，雜質(zhì)含量極低。

【應(yīng)用領(lǐng)域】

光刻技術(shù)

（1）用作DUV和EUV光刻膠中的光酸生成劑，提升感光靈敏度。

（2）確保光刻膠的圖形分辨率和精準(zhǔn)度，適應(yīng)先進(jìn)制程工藝。

半導(dǎo)體制造

（1）適用于晶圓加工中的蝕刻和圖形轉(zhuǎn)移工藝，滿(mǎn)足7nm及以下節(jié)點(diǎn)的技術(shù)需求。

（2）提高半導(dǎo)體器件的性能和穩(wěn)定性，支持高密度電路設(shè)計(jì)。

其他電子領(lǐng)域

（1）在顯示面板制造中，用于提升微細(xì)圖形生成效果。

（2）適合光電子器件和集成光學(xué)系統(tǒng)的精密加工，優(yōu)化性能表現(xiàn)。