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2,3,4-Trihydroxybenzophenone naphthoquinone-1,2-diazido-5-sulfonate

ProductNum CAS No. MDL No. PubChem ID Formula MW Purity Appearance
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Product Name 2,3,4-Trihydroxybenzophenone naphthoquinone-1,2-diazido-5-sulfonate
CAS68510-93-0
ProductNumYH68662
FormulaC23H16N2O8S
MW480.45

電子級2,3,4-三羥基二苯甲酮 1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酸酯是一種高效光敏化合物,專為先進光刻膠配方設計。其獨特的分子結構結合了二苯甲酮的光化學活性與疊氮基的光響應特性,在紫外光照射下能夠生成活性種,廣泛應用于高分辨率光刻工藝中,滿足半導體制造領域對精細圖案的需求。

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【物理性質】

基本性質

化學名稱:2,3,4-三羥基二苯甲酮 1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酸酯

分子式:C23H16N2O8S

分子量:480.45 g/mol

外觀與溶解性

外觀:黃色至橙色粉末

溶解性:易溶于甲醇、乙腈等極性有機溶劑

熱穩定性與儲存條件

熔點:約190℃

儲存條件:避光密封儲存,建議儲存溫度為0-10℃,防止氧化和濕氣影響

【應用領域】

光刻膠配方

作為光敏劑,顯著提升光刻膠的曝光靈敏度和圖案分辨率。

1)適配紫外(UV)和深紫外(DUV)光刻工藝。

2)增強光刻膠顯影過程中圖案邊緣銳度和清晰度。

半導體制造

廣泛應用于集成電路與微電子加工中的圖案轉移工藝。

1)支持先進制程的高精度圖形刻蝕,提升線寬控制能力。

2)優化晶圓加工良率,降低缺陷率。

光敏材料研發

用于開發新型光敏材料,滿足顯示面板、傳感器等高端領域需求。

1)提升材料的光穩定性和熱穩定性。

2)增強材料在復雜環境下的光響應性能,適配多種先進光學應用場景。


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86-571-82693216
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